페로브스카이트 태양전지 제조

SnO2:F 유리 기판
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SnO2:F 막 패 턴	← Zn 금속 입자와 탈이온수에 희석된 2 M HCl으로 에칭
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기판 세척	← 세제를 이용한 초음파, 아세톤/에탄올 세척, 깨끗하고 건조한 공기로 드라이
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30 nm TiO2 막 형성	← 전구체로 titanium isopropoxide(TTIP)와 물을 이용해서 ALD로 형성
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20 nm 크기의 입자로 이루어진 다공성 TiO2 막 형성	← 에탄올에 희석된 수열 합성된 TiO2 페이스트를 사용해서 30초 동안 4,500 r.p.m으로 스핀 코팅
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120 °C 건조
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500 °C, 15 min 열처리
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0.02 M TiCl4 수용액 처리	← 70 °C, 30 min
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세정 및 건조	← 탈이온수로 린스, 500 °C, 20 min
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재열처리	← 500 °C, 30 min
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CH3NH3SnI(3-x)I(x) 막 형성	← 70 °C에서 저으면서 N,N-dimethylformamide에 30 wt%로 CH3NH3SnI(3-x)I(x)을 용해시킨다. 용액은 전체 공정 동안 70 °C로 유지시킨다. 4,000 r.p.m으로 45 s 동안 스핀 코팅한다.
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막 건조	← 125 °C, 30 min (용매 제거)
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HTM(spiro-OMeTAD) 형성	← 4,000 r.p.m, 30 s
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100 nm Au 형성	← 열증착 공정
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실링	← 230 um hot-metling 폴리머를 이용해서 N2 박스에서 실링 후 슬라이드 유리로 덮어 산화 방지

참고: Lead free solid-state organic-inorganic halide perovskite solar cells, Feng Hao, et al., Nature Photonics, VOL 8, JUNE 201